レリーフ彫刻の技法

高浮き彫り (彫刻が背景からほぼ切り離されている)、半浮き彫り、低浮き彫り、浅浮き彫り (芸術作品の表面の傷に似ています){0}}。{1}ラインレリーフや凹版もあります。前者は、彫刻に似た、彫刻されたレリーフを指します。後者は、背景の表面の下深く、反対方向に彫られたレリーフです。

高浮き彫りと低浮き彫りは、最も一般的な彫刻技法です。高レリーフとは一般に、開始線からの単一画像の厚さとレリーフ表面の実際の厚さの比率が 5 分の 2 を超える、層状の圧縮を伴うレリーフを指します。-。片側から見るのに適しています。低レリーフは一般に、レリーフ表面の実際の厚さに対する開始線からの単一画像の厚さの比率が約 10 分の 1 以下である、層状の圧縮を伴うレリーフを指します。平らな彫刻された絵に似ています。片側から見るのに適しています。